Photo-atinging Delicate Acabamentos IC Lead Frame
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Photo-atinging Delicate Acabamentos IC Lead Frame

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3yrs

Shaoxing, Zhejiang, China

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Graça de alta condutividade C192 IC CEAD COMPRO



Como transportadora de chip para circuitos integrados, são necessários quadros de chumbo na grande maioria dos blocos de semicondutores e são um material básico importante no setor de informações eletrônicas. O quadro de chumbo dos circuitos integrados maximiza o desempenho do chip, como a função difusiva de calor, e permite que ele seja operado por longos períodos de tempo.
A estrutura de chumbo IC de alta precisão é amplamente utilizada em produtos emergentes, como inteligência artificial, Internet das coisas, fabricação inteligente e novos veículos energéticos. O uso da matéria -prima para o quadro de chumbo IC é C192 ou C194 Cobre, que o material C192 tem melhor condutividade. A produção de quadros de chumbo de IC suave pelo processo de gravação de metal pode obter maior precisão, por exemplo, podemos produzir produtos com vários pinos (mais de 100 pinos) de estrutura de chumbo com vários pinos e também podemos produzir produtos ultrafinos, como como como gravado 0,125 mm de espessura IC da estrutura de chumbo. Além disso, podemos garantir que nossa estrutura de chumbo de cobre IC ou moldura de meia gravação tenha arranjo uniforme, linha de gravação reta e acabamentos suaves e delicados.



Abaixo estão os parâmetros específicos deste produto, verifique mais o quadro de chumbo do IC em nosso site para obter mais idéias.


Material Thickness Minimum Diameter Minimum Distance Accuracy
C192/C194 Copper 0.125mm - 0.25 mm 0.05 mm 0.18 mm - 0.3 mm +- 0.02 mm —— +- 0.04 mm


Quadro de chumbo IC de gravação de metal

Ic Lead Frame 15 Ps Jpg


Detalhes da moldura de chumbo da gravação de metal IC

Ic Lead Frame 15 Detail Jpg




Company Overview

SHAOXING HUALI ELECTRONICS CO., LTD. is the earliest precision machining manufacturer in China and is also a national high-tech etching enterprise specialized in producing metal etching products. Since its establishment in 1994, Veja mais

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